专利名称:TFT阵列基板的制作方法专利类型:发明专利发明人:王勐
申请号:CN201710245925.6申请日:20170414公开号:CN107104077A公开日:20170829
摘要:本发明提供一种TFT阵列基板的制作方法,以半色调掩膜板(3)为工具进行曝光,使得第二金属层(M2)中放电TFT(T3)的漏极(D3)及其爬坡处的上方保留薄层的光阻(PR),在后续的干法蚀刻过程中被保留的薄层的光阻(PR)对位于所述放电TFT(T3)的漏极(D3)的爬坡处以下的栅极绝缘层(GI)进行保护,避免栅极绝缘层(GI)在放电TFT(T3)的漏极(D3)的爬坡处因材质差异发生过蚀刻及底切问题,降低导电薄膜(9)破膜的风险,使得放电TFT(T3)的漏极(D3)与公共电压线(Com)之间的桥接可靠,且不会损失开口率,从而改善面板的显示效果,提高产品良率。
申请人:深圳市华星光电技术有限公司
地址:518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号
国籍:CN
代理机构:深圳市德力知识产权代理事务所
代理人:林才桂
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