专利名称：微波处理装置专利类型：发明专利
发明人：吉野浩二,久保昌之,桥本修,须贺良介申请号：CN201880041538.3申请日：20180628公开号：CN110892789A公开日：20200317
摘要：微波处理装置具有处理室、微波供给部以及谐振部。处理室由多个壁面围成，收纳被加热物。微波供给部向处理室提供微波。谐振部设置于多个壁面中的一个壁面，在微波的频带中具有谐振频率。根据本方式，通过对提供到处理室的频率进行控制，能够使谐振部的表面的阻抗发生变化。由此，能够对处理室内的驻波分布、即处理室内的微波能量分布进行控制。其结果是，在对多个被加热物同时进行加热的情况下，能够对各被加热物实施期望的介电加热。
申请人：松下电器产业株式会社
地址：日本大阪府
国籍：JP
代理机构：北京三友知识产权代理有限公司
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