专利名称：用于处理基板的腔室专利类型：实用新型专利发明人：申寅澈
申请号：CN201820835248.3申请日：20180531公开号：CN208422871U公开日：20190122
摘要：本实用新型的目的在于提供一种用于处理基板的腔室，其在使用超临界流体处理基板时，可稳固地支撑高压状态的腔室内部压力，同时减少腔室的整体高度，使得异物流入基板的情况最小化。用于实现所述目的的本实用新型的用于处理基板的腔室包括：第一外壳，其用于安放基板；第二外壳，其与所述第一外壳相结合，从而形成基板处理空间；第一框架，其用于固定所述第一外壳；第二框架，其用于固定所述第二外壳；驱动部，其固定于所述第一框架或者第二框架并对升降部进行旋转驱动；以及支撑架，其以使得所述升降部升降的形式进行支撑。
申请人：凯斯科技股份有限公司
地址：韩国京畿道安城市
国籍：KR
代理机构：北京冠和权律师事务所
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