专利名称：一种GPP生产的光刻版工艺专利类型：发明专利
发明人：梁效峰,王彦君,孙晨光,徐长坡,陈澄,武卫,王晓捧,史
丽萍,杨玉聪,牛慧锋
申请号：CN201710615679.9申请日：20170726公开号：CN109307981A公开日：20190205
摘要：一种GPP生产的光刻版工艺，步骤包括：S1、对硅片进行光刻；S2、对光刻后的硅片进行沟槽腐蚀；S3、对沟槽腐蚀后的硅片进行电泳，生成钝化层；S4、去除氧化层；S5、对硅片表面镀金；S6、划片；所述S1光刻时硅片的P、N两面采用“回”字对准标记；光刻时N面图形采用白方块点划线；所述S4采用湿法刻蚀去除氧化层。本发明相较于原工艺的有益效果是：采用“回”字对版标记和白方块点划线式基准线，用湿法去除氧化层后，能保留硅片表面清晰的基准线，便于硅片P、N面对版以及后续切割时有轨迹可依。
申请人：天津环鑫科技发展有限公司
地址：300380 天津市西青区华苑产业区(环外)海泰东路12号A座二层
国籍：CN
代理机构：天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人：栾志超
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