您的当前位置:首页正文

一种简易制备直立石墨烯纳米片阵列的方法[发明专利]

2024-06-15 来源:汇智旅游网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:一种简易制备直立石墨烯纳米片阵列的方法专利类型:发明专利发明人:栗军帅,郭鑫,李亚丽申请号:CN201811589279.6申请日:20181225公开号:CN109665516A公开日:20190423

摘要:一种简易制备直立石墨烯纳米片阵列的方法,包括以下步骤,步骤一:将合适的含碳固相前驱物的溶液、粉体、胶状物等涂覆于具有催化作用的衬底上并干燥;步骤二:将含碳前驱物置于管式炉中,在惰性气体的保护下,升高炉内温度,实现直立石墨烯纳米片阵列的制备。本发明具有以下优点:第一,设备简单且易于操作及维护,可大规模生产;第二,制备过程简单、低劳动强度、能耗低,不涉及高温、高压,满足安全、绿色的生产理念;第三,生长的直立石墨烯纳米片可以为单层也可以为少数层(≤10层)。

申请人:兰州大学

地址:730000 甘肃省兰州市城关区天水南路222号

国籍:CN

代理机构:北京清诚知识产权代理有限公司

代理人:乔东峰

更多信息请下载全文后查看

因篇幅问题不能全部显示,请点此查看更多更全内容