专利名称：一种晶圆清洗装置专利类型：实用新型专利发明人：邢滨,郝静安,刘洋申请号：CN201420169763.4申请日：20140409公开号：CN203816971U公开日：20140910
摘要：本实用新型提供一种晶圆清洗装置，至少包括：晶圆及位于其上表面的清洁主体；穿过该清洁主体上、下表面的第一、第二通孔；位于该清洁主体上表面的第一、第二通孔一端分别连接有注水泵和抽水泵；穿过清洁主体上表面且不穿过其下表面的气体注入孔；所述气体注入孔连接有气泵；穿过清洁主体下表面且与气体注入孔贯通的环形封闭槽；该环形封闭槽围绕所述第一、第二通孔；所述清洁主体下表面与晶圆上表面之间设有空隙；由环形封闭槽围成的水平面区域与所述空隙构成的液体腔；所述第一、第二通孔另一端与所述液体腔贯通。本实用新型将所述清洁主体增加注水孔和出水孔形成液体循环系统，可以有效提高晶圆表面的清洁效果，并提高产品的制造良率。
申请人：中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
地址：100176 北京市大兴区经济技术开发区(亦庄)文昌大道18号
国籍：CN
代理机构：上海光华专利事务所
代理人：李仪萍
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